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本设备采用垂直涂覆工艺，专为实现大面积、高一致性的平面湿法薄膜制备而设计。搭载高带宽运动控制系统，精确协同模头升降、供料与速度；集成纳米级在线测量传感器，全程保障涂层厚度均匀性。
涂覆基材覆盖范围：600×600mm~ 2400×1200mm
涂覆湿厚：≥3um
成膜干厚：优于5%（@500nm）
最大涂覆速度：80mm/s
产能节拍：约1ppm（需配合高速上下料系统实现）
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