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实验室级钙钛矿平面涂布设备
产品概述:

采用垂直涂覆工艺,专为平面基材的湿法薄膜制备而优化。其设计紧凑轻量,在确保高标准涂覆效果的同时,集成完善回风系统,为操作人员提供健康防护。

核心参数:

涂覆基材覆盖范围:200×200mm~400×400mm

涂覆湿厚:≥3um
成膜干厚:优于3%(@500nm)

最大涂覆速度:100mm/s

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