本设备采用高精度狭缝涂布技术，专为攻克多层复合膜制备中涂层均匀性控制、高湿厚浆料烘干变形等行业难题而设计，是实现高性能、低缺陷离子膜量产的关键装备。
最大基材宽幅：≤ 1250 mm （可定制） 涂布速度范围：0.1 – 2 m/min 烘箱最高温度：250 °C 烘箱温度均匀性：± 2 °C 涂层厚度均匀性：≤ ± 1 μm
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